杭州玉之泉精密仪器有限公司 MPD 双光子三维激光直写光刻系统，在近期联合浙江大学发表于《International Journal of Extreme Manufacturing》的研究中，实现了40nm 的横向极限线宽制造能力，平均线宽 43.26nm，RMS 粗糙度 1.6nm，这也是目前我们在理想实验条件下达成的最高制造精度。
此前行业报道中提到的 “50nm”，是我们基于PPI超分辨双光子刻写的稳定量产级横向分辨率指标，代表了设备在常规工况下可长期稳定实现的加工水平；而本次 40nm 是在优化实验条件、工艺参数后的极限制造线宽，两者并不矛盾 —— 前者代表设备 “稳定能做到” 的水平，后者代表设备 “极限能做到” 的上限，共同体现了我们在双光子光刻领域的技术实力。论文全文可通过DOI公开查阅：10.1088/2631-7990/ae289e。
玉之泉 MPD 产品支持真三维无掩膜光刻，可完成高自由度纳米级三维结构制造，覆盖微纳光学器件、微 / 纳流控芯片、片上光互联、微机械等应用场景，持续为微纳制造领域提供高性能、高稳定性的解决方案。
关于玉之泉
杭州玉之泉精密仪器有限公司立足国家战略需求，汇聚优秀技术人才，研发人员占比超70%，致力于光电科技前沿领域，专注为客户提供高精度微纳加工设备及定制化解决方案。
公司当前主营产品包括：
•MPD双光子三维激光直写光刻系统 — 横向极限最小特征尺寸40nm
•AOD紫外激光直写光刻系统 — 最小特征尺寸300nm，套刻精度300nm
•FSD飞秒激光微纳加工系统 — 硬脆材料飞秒激光三维微纳加工设备、光纤光栅飞秒激光多功能微纳加工设备、光纤光栅飞秒激光自动化微纳加工设备
•UVD数字投影无掩膜光刻系统 — 最高直写分辨率500nm
•VOP生物体打印光刻系统 — 特征精度200µm，效率提升50至300倍
此外，玉之泉还设有加工服务中心，提供飞秒激光微纳加工、表征、检测等综合服务，支持超透镜、超表面、光栅、微型内窥镜探头等复杂微纳结构的定制加工。
从50nm到40nm：资质与里程碑
40nm的突破并非偶然，背后是玉之泉团队自1995年起在超分辨光刻领域二十余年的技术积淀。成立至今，玉之泉先后荣获国家高新技术企业、国家科技型中小企业、省级专精特新中小企业、省级企业研究院、省级科技型中小企业、杭州市新雏鹰企业、杭州市准独角兽企业、市级研发中心等多项资质认证。2025年入选VENTURE50“新芽50”榜单，斩获第18届“创业之星”Next Star百万奖金全球悬赏赛国际赛区第一名。
核心里程碑：
•团队自1995年起积累超分辨光刻领域技术，先后获得国家自然科学奖四等奖、国家科技进步二等奖、国家技术发明奖二等奖等多项国家级奖项
•2022年杭州玉之泉正式成立，同年FSD硬脆体飞秒激光加工设备及公里级光纤光栅加工设备产品化
•2023年完成Pre-A轮融资，UVD数字投影无掩膜光刻设备产品化
•2024年成立制造子公司及新加坡子公司，VOP生物体打印光刻设备产品化，获中国光学学会科技创新奖特等奖
•2025年完成A轮及A1轮融资，成立合肥子公司，AOD紫外激光直写光刻设备产品化
核心团队
玉之泉技术团队由浙江大学光学领域资深教授领衔：
•刘旭 — 浙江大学光电科学与工程学院教授、博导、长江学者，美国光学学会会士、SPIE国际光学工程学会会士，浙江大学极端光学技术与仪器全国重点实验室主任。获国家技术发明二等奖、国家科技进步二等奖等，发表SCI论文200余篇，持有国家发明专利100余项。
•匡翠方 — 浙江大学光电科学与工程学院教授、博导、国家杰出青年，发表高水平论文140余篇，主持重大研究项目20余项，2018年获中国光学科技奖一等奖，2019年获国家技术发明二等奖。
•李海峰 — 浙江大学光电科学与工程学院教授、博导，主要从事光电薄膜、光电显示、光学仪器等方向研究，获国家科技进步奖二等奖、国家科技发明奖二等奖等。
•张舟洋 — 浙江大学金融硕士、电子信息工程博士、高级工程师，2025年浙江省青年科技型企业家，具备多领域管理经验。
全球布局
玉之泉总部位于杭州，已在新加坡、合肥、深圳设立子公司。
了解玉之泉飞秒激光直写光刻系统产品详情，可访问玉之泉官方网站或联系业务团队。
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